Слабокислотная маска Abib Mild Acidic pH Sheet Heartleaf Fit Mask — это насыщенная эссенция, которая впитывается глубоко в кожу благодаря упругой тканевой основе, моментально освежая и успокаивая.

Средство снимает раздражение и покраснение, успокаивает воспаление, увлажняет и освежает, нормализует кислотно-щелочной баланс. Гипоаллергенная формула подходит для чувствительной и проблемной кожи.

Особое лекало маски создано по технологии ALBAM из бамбука и альбумина (встречается в яичном белке) — такая технология позволяет основе маски повторять контуры лица, за счёт чего продукт повышает эластичность кожи и усиливает проникновение активных компонентов в эпидермис.

Формула основана на 89% экстракте хауттюйнии сердцевидной — компоненте, который восстанавливает, заживляет ранки и микротрещинки, оказывает противовоспалительное действие и улучшает состояние кожи с акне. Хауттюйния для средств Abib собрана в экологичном районе — национальном парке Южной Кореи, на горе Чирисан.

Дополнительные действующие компоненты:
Экстракт портулака ускоряет регенерацию и способствует заживлению, сужает поры и уменьшает выработку себума.
Экстракт центеллы азиатской успокаивает, снимает покраснение и укрепляет сосуды, уменьшая видимость сосудистой звёздочки и признаки купероза, устраняет отёчность, отлично подходит для ухода за чувствительной кожей.
Экстракт корня солодки деликатно осветляет, борется с раздражением, повышает выработку коллагена и борется с раздражением.
Экстракт листьев зелёного чая способствует регенерации, тонизирует, ускоряет микроциркуляцию, сглаживает микрорельеф, помогает в борьбе с возрастными изменениями.
Экстракт листьев розмарина способствует регенерации, тонизирует, ускоряет микроциркуляцию, сглаживает микрорельеф, помогает в борьбе с возрастными изменениями.
Кофеин борется с отёками, улучшает микроциркуляцию, ускоряет процесс регенерации и оказывает сильное антиоксидантное действие, защищая клетки от окисления.
Подходит для комбинированной, жирной, проблемной и чувствительной кожи.

Способ применения: нанесите маску на лицо после очищения и тонизирования, снимите через 10-20 минут. Аккуратно вбейте в кожу остатки эссенции подушечками пальцев.